Techniques de dépot
Les techniques de dépôt qui ont fait leurs preuves chez ST Plasmas sont, en fonction de vos besoins :
- La CVD assistée par plasma (PECVD). La couche se forme à la suite de réactions entre les gaz précurseurs. Cette technique de dépôt peut se dérouler à température ambiante, comme à plus haute température, selon par exemple le degré de cristallisation souhaité. Exemple de dépôt
- La pulvérisation magnétron (réactive ou non). Le matériau à déposer est ici apporté sous forme solide (cible). La cible est alimentée en tension continue ou en radio-fréquence, suivant le matériau déposé.
- L'évaporation sous vide assistée par plasma (réactive ou non).
| |
Ces techniques nécessitent la présence d'un plasma afin de déposer les matériaux souhaités. Elles peuvent être très nettement améliorées par un système, breveté par ST Plasmas, permettant la génération d'un plasma par micro-ondes.
|
