• Plasma par micro-ondes®
  • Résonance Cyclotronique Electronique
  • Interaction plasma-surface
• Traitements par plasma
• Techniques de dépot
• Solutions clients
• Foire Aux Questions
• Exemples de résultats

Plasma par micro-ondes®

Le principe de la technologie ST Plasmas est basé sur la résonance cyclotronique électronique (RCE). Le plasma est généré par des éléments unitaires appelés applicateurs magnétiques micro-ondes.

Un applicateur magnétique micro-onde se présente sous la forme d'un tube qui isole les micro-ondes et d'un aimant à son extrémité autour duquel le plasma est créé. La juxtaposition de ces applicateurs permet d'adapter parfaitement la surface de plasma aux pièces à traiter.

• Forme variée de la source plasma (plane, légèrement convexe ou concave)
• Très grande flexibilité et adaptabilité des sources plasma sur la plupart des machines de dépôt (pulvérisation, évaporation, CVD…)
• Techniques parfaitement compatibles avec des procédés au défilement ou en rotation
• Très bon rendement en énergie de la production de plasma
• Domaine très large de la pression de travail, depuis, 0.06 mTorr à 60 mTorr
• Mise au point du procédé facilitée, car les paramètres de l'interaction plasma-surface deviennent indépendants les uns des autres

Les plasmas micro-ondes pour les traitements chimiques

Pour des méthodes par voie chimique (dépôts par CVD, gravure, nettoyage ou passivation de surfaces), l'utilisation de plasmas créés par résonance cyclotronique électronique présente également les intérêts suivants :

Pas de limitation de la surface de plasma Uniformité d'épaisseur accrue en statique : 2% sur 300 mm Vitesse très nettement améliorée. Exemple de résultats Qualité et densité de couches améliorées Large gamme de température, allant de l'ambiante à 900°C, autorisant une large gamme de substrats

Les plasmas micro-ondes pour les méthodes PVD

Les techniques micro-ondes sont également applicables à des méthodes de dépôt par voie physique (pulvérisation ou évaporation). On peut alors déposer des couches minces de différentes natures (métaux ou alliages, oxydes, nitrures, semi-conducteurs, etc.), avec les bénéfices suivants :

Une vitesse très nettement améliorée. Exemple de résultats Une qualité et une densité de couches améliorée La possibilité de remplacer les alimentations radiofréquence, contraignantes, par des alimentations continues. Exemple de résultats Une usure des cibles de pulvérisation uniforme. Exemple de résultats